Российские ученые создали технологию производства микросхем с нанометровой топологией. Она в 3000 раз быстрее аналога

Разработчики завершили этап исследований и подготовили проект установки при поддержке Национальной технологической инициативы, сообщили «Известия». Следующий этап — опытно-конструкторские работы, после которых появится первый опытный образец. Его ожидают к 2030 году.

Ключевым элементом литографа стал мультикатод — устройство, формирующее множество электронных лучей одновременно. Традиционные системы используют только один луч, что значительно замедляет процесс.

Экспонирование кремниевой пластины в однолучевых установках занимает 1,5–2 недели. Новая технология сокращает этот процесс до 5–7 минут, рассказали разработчики изданию.

Многолучевой литограф сможет производить микросхемы с топологией до нескольких нанометров. Такие чипы необходимы для беспилотников, телекоммуникационной отрасли, промышленности и других секторов экономики.

Технология разрабатывается в рамках импортозамещения и развития собственной микроэлектронной промышленности. Российская установка должна заменить зарубежные аналоги и стать более доступной по сравнению с импортными многолучевыми системами.

Параллельно в особой экономической зоне «Алабуга» в Татарстане готовится к запуску производство интегральных микросхем с использованием иностранного оборудования, пишет CNews. На площадку доставлены фотолитографические установки ASML, реакторы травления Lam Research и имплантеры для полного цикла производства чипов. Для наладки работы оборудования ведется поиск специалистов по литографам ASML, следует из опубликованных вакансий.